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#61 (permalink) | |
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Io so una cosa sola, di nulla sapere
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Citazione:
Il discorso è molto più complesso di quanto tu creda o ti diverti a banalizzare, ti invito a leggerti come funziona il conto energia e perchè è stato deliberato con decreto legge nel 2007 Appello per le energie rinnovabili |
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#62 (permalink) | |
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Io so una cosa sola, di nulla sapere
Data registrazione: Apr 2000
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Citazione:
sono le frasi con le quali finisci i tuoi interventi a indisporre....non ci si può confrontare in modo costruttivo? e' come sei io scrivessi alla fine di ogni intervento 2abbasso il nucleare" o "********* chi crede nel nucleare" o meglio ancora "il nuceleare ci fa morire tutti"....tu fai lo stesso terrorismo, mi viene da pensare a qualche tuo coinvolgimento in chissà quali interessi...almeno io ho dichiarato che rappresento 2 aziende produttrici di moduli... |
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#63 (permalink) |
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Io so una cosa sola, di nulla sapere
Data registrazione: Apr 2000
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La prima generazione del fotovoltaico è stata dominata dal silicio, un materiale non tossico, abbondante ed utilizzato dall’industria microelettronica.
Un wafer di silicio mono o multi cristallino costituisce il cuore della maggior parte dei moduli fotovoltaici fin ora utilizzati; le barre di silicio monocristallino o multi cristallino di ottengono da rifusioni di scarti dell’industria microelettronica. La diffusione attuale del fotovoltaico quale alternativa a fonti energetiche decisamente più inquinanti, ha portato a una richiesta sempre maggiore di questi scarti che l’industria microelettronica fatica a fornire. Inoltre il silicio mono e policristallino richiede un accurato assemblaggio industriale con elementi spesso critici che tendono ad aumentare gli scarti**e che creano difficoltà nell’automazione dell’assemblaggio stesso. L’altalena dei prezzi degli ultimi tempi dei pannelli fotovoltaici rispecchia quanto sopra esposto, da qui la necessità dell’utilizzo di altre tecnologie. |
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#64 (permalink) |
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Io so una cosa sola, di nulla sapere
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La seconda generazione del fotovoltaico è basata sul film sottile, per dare un’idea pochi μ (millesimi di millimetro) rispetto ai 200-300 μ del cristallino.
Oltre alla minore quantità di silicio richiesta, il film sottile permette un’automazione molto più spinta e, di conseguenza un contenimento dei prezzi. Il fil sottile, infatti non necessita di tutte le fasi di lavorazione del wafer di silicio,infatti può essere depositato con apposite tecniche su vetro, plastica e metalli, inoltre richiede, come già detto quantità molto inferiori di silicio. Le tecnologie a film sottile sono oramai mature, oltre al silicio amorfo (a-Si), sono disponibili le giunzioni ibride***a-Si/μ-Si (silicio amorfo e microcristallino),**CIS (sinonimo di rame, indio e selenio), CdTe (cadmio e tellurio), GCIS (gallio, rame, indio e selenio). La tipica struttura di un film sottile è data da un supporto, generalmente vetro sul quale con apposite tecniche vengono depositati : 1.*****Uno strato metallico conduttivo (generalmente Ago Mo) opportunamente**conformato dovendo creare delle serie (pile orizzontali) 2.****Materiale assorbitore (CIS, GCIS, CdTe, a-Si, a-SiGe) 3.****Buffer (CdS) 4.****Conduttore**superiore trasparente (ZnO) |
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#65 (permalink) |
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Io so una cosa sola, di nulla sapere
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Vantaggi :
·******Lo strato assorbente può essere prodotto in spessori molto ridotti tipicamente 2-3µm, contro i 200-300µm del wafer di silicio. Questo consente notevoli risparmi sul costo della materia prima ed elimina i problemi della reperibilità. *·******La tecnologia consente di ridurre le fasi della lavorazione, con la realizzazione, in un unico processo, di tutte le celle del pannello e della relativa connessione, eliminando la costosa fase del montaggio delle celle e della loro connessione elettrica tipica della tecnologia Si-wafer-based. *·******Il grado di automazione del processo di produzione dei moduli è maggiore rispetto alla tecnologia Si-wafer-based. *·******Gli strati che costituiscono le celle possono essere depositati su materiali poveri, come vetro comune, ma anche fogli di plastica o di metallo. *·******Con una produzione di pannelli non inferiore a 50 MW/anno il costo del Wp può essere molto contenuto, pertanto, l’energy pay back time*degli impianti fotovoltaici può essere sensibilmente inferiore a quello per impianti Si-wafer-based.** *·******Si possono produrre moduli rigidi o flessibili. |
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#66 (permalink) |
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Io so una cosa sola, di nulla sapere
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Svantaggi :
* ·******Dall’entità degli investimenti necessari per la produzione. A parità di MW installati, un impianto a film sottile richiede investimenti circa dieci volte maggiori di un impianto per moduli Si-wafer-based. D'altra parte gli operatori sostengono che la soglia minima per ottenere EBIT soddisfacenti dalla produzione dei moduli a film sottile debba essere di almeno 50 MW. * ·******Dal momento dell'ordine di acquisto degli impianti, al momento dell'avvio della produzione a regime occorrono dai due ai tre anni. Tempi circa tre volte più lunghi di quelli necessari per una fabbrica di pannelli Si-wafer-based. * ·******Dai più bassi valori dell'efficienza di conversione che obbligano, a parità di potenza installata, ad avere superfici di captazione dell'energia solare maggiori, e quindi, a parità di potenza di picco, un impianto a film sottile occupa maggiore spazio. |
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#67 (permalink) |
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Io so una cosa sola, di nulla sapere
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Produttività.
* La produttività dei moduli fotovoltaici in genere non è molto elevata, di norma con i moduli commerciali non supera mai il 20%, il che sta a significare che, visto che l’irradiazione solare a livello del mare alle nostre latitudini è in genere inferiore al kWh di picco, per un*metro quadrato*di pannello fotovoltaico*sarà impossibile ottenere più di 200 W, anzi*mismatching e*successive trasformazioni eroderanno ancora di più tale potenza. * In effetti dovremo così suddividere per tecnologie le rese : * 1.***Monocristallino*η = 1*5-18% * 2.***Policristallino*η =*11-14% * 3.***CIS*η =*11-13% * 4.***CdTe*η =*8-10% * 5.***a-Si (triple)*η =*5-7% |
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#68 (permalink) |
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Io so una cosa sola, di nulla sapere
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Quanto visto, unitamente al fatto che il film sottile genericamente presenta un degrado iniziale abbastanza sensibile, può spiegare il ritardo nell’utilizzo di queste tecnologie.
Inoltre le tecnologie a film sottile in caso di incendio possono provocare l’emissione di gas tossici piuttosto aggressivi. Nonostante questo, in attesa di una eventuale tecnologia fotovoltaica di terza generazione,**è prevedibile che il film sottile si affianchi al cristallino acquisendo per il futuro quote di mercato andando a coprire applicazioni «particolari» e integrando le applicazioni del cristallino stesso |
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#69 (permalink) |
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Sono realizzati attraverso la deposizione di strati sottilissimi di materiale semiconduttore. Grazie allo spessore estremamente ridotto, sono particolarmente adatti per l'integrazione alle strutture degli edifici. Vi sono vari tipi di Moduli a Film sottile: Silicio amorfo, Tellururo di cadmio (CdTe), Solfuro di cadmio (CdS) microcristallino, Arseniuro di gallio (GaAs), Diseleniuro di indio rame (CIS), Diseleniuro di indio rame gallio (CIGS).
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